在循环水中形成垢的物质的晶粒表面附着有带负电的离子型聚合物[19]，如果将物 质表面的所带有的正负电荷数量进行增减，让那些小型晶粒上面的正负电荷数目都一样，他们之间的静电斥力不会让小型晶粒之间相互靠近，碰撞也不会轻易发生，因此 晶粒长大再沉淀的情况也不会发生。阻垢剂的目标分子一般都比无机盐分子大，这些 大型的分子把那些小型的无机盐分子围住，让小型的无机盐分子彼此直接无法直接接 触，之间一直有阻垢剂分子的隔挡，因此小型晶粒也就无法长大再沉淀。被包住的这 一个一个的整体互相独立，状态自由，容易被水流带走。论文网

1。4。3   螯合作用

聚合物阻垢剂的目标分子通常来说较大，其中存在着数目很多的羧酸根离子，与 一些正二价金属离子如镁离子、钙离子、钡离子等发生螯合作用，他们螯合所产生的 化合物十分的稳固，能够让更多数目的正价离子以一种恒定的形式留在循环水中，换 句话说就是让垢的溶解度提升了，更容易溶于水中，并且彼此之间的静电相互作用减 弱，因此也抑制了垢的不可阻碍的产生[20]。膦酰基也存在于一些阻垢剂分子中，这种 官能团与很大一部分的正价离子有十分优秀的螯合作用能力，除此之外，还能在一定 程度上减缓垢下腐蚀的速度。如果在有羧酸根离子的聚合物阻垢剂分子中加入这种具 有缓蚀作用的官能团，让 = PO( OH) 基和 －COOH 基同时存在于同一个目标分子 上，也许会产生更加优良的阻垢效果以及一定程度的缓蚀功能。

1。4。4   阈值效应

阈值效应又称低剂量效应或溶限效应，也就是说，即使阻垢剂施用的数量不多， 也能够起到非常良好的效果。当药剂施放的量增高时，阻垢作用也会变得更好，但是 当施放量达到某一个数值时，这种效果的提升就并非如一开始那么鲜明了[21,22]。这种 效应是抑制垢的效果的一种整体模型，也能从这里面看出一些阻垢的原理。晶体生长 的 PBC 理论以及动力学观点认为：数目较小的活性生长点的发展导致了小型晶体的 变大，这些数目较小的活性生长点就是晶格的变化之处，所以，当阻垢剂附着在数目 较少的活性生长点时，垢的小型晶粒就不能顺利地生长。

1。4。5    双电层作用

晶体中心核的四周的扩散边界层中聚集了大量阻垢剂目标分子[18]，这里就会有两 层电子层，这样的话结垢离子、酸根离子或者分子团就不能够轻易的在金属之上凝结 在一起。此外，目标分子与晶核是以一种不稳定的形式存于水中的。

1。5   分子动力学(MD)方法

1。5。1 分子动力学模拟

分子动力学模拟(Molecular Dynamics，MD)，它是将原子看成一系列的弹性球， 按照原子瞬时的运动状态，对每个原子的牛顿运动方程进行求解，得到原子的位置和 速度[23]。在本文中，我们使用 Materials Studio 6。0 软件来实现这种模拟。如果要对一 种非宏观的，肉眼不可见的现象进行研究时，用这种 MD 模拟方法来计算是则是一种 创新的途径，不仅可以弄清楚反应原理并对其确定性质，而且可以弄清楚它产生的物 质的数量及如何分布。

这种模拟 MD 计算现存在如下两种条件；(1) 在模拟系统中的的粒子皆按照牛顿 的三种力学原则进行运动；(2) 系统中的粒子彼此的相互作用还要符合叠加原理[24]。 即使满足了这两个条件，但是我们并没有将量子的效应考虑其中，此外，多体作用也 没用纳入需要满足的条件之中。这样的话，模拟的情况与现实的运动情况并不完全一 致，存在着一些差异。虽然现在已经有了理论研究，或者进行实验这两种科研方式， 但依然需要模拟计算来进行补充，即使存在着微小的误差。但是在多个领域的广泛应 用后，发现这种方法还是有一定的价值。文献综述 常见阻垢剂与钢厂循环水中BaSO4相互作用的MD研究(6):http://www.youerw.com/huaxue/lunwen_100167.html