摘要：近 20 年来，薄膜技术与薄膜材料获得迅猛发展。各类新型薄膜材料大量 涌现，薄膜制作和微细加工工艺不断创新，各种薄膜在高新技术中的应用也更加 的普及。薄膜技术与薄膜材料之所以受到人们的关注，主要是基于薄脱抄术是实 现器件轻薄短小化和系统集成化的有效手段。磁控溅射技术在薄膜的制备领域有 着广泛的应用，不同的制备工艺和制造技术对所制薄膜样品有着重要的影响。采 用磁控溅射技术，探索不同的实验条件制备金属薄膜。在前人研究的基础上，介 绍了磁控溅射镀膜原理以及磁控溅射实验过程。利用磁控溅射技术制备了 Cu 膜、 Ti 膜以及 Cu-Zr 金属薄膜样品，并分析了 Cu 膜、Ti 膜的光学性能。通过 XRD 衍射实验分析了 Cu-Zr 合金薄膜的非晶结构。90876
毕业论文关键词：磁控溅射，薄膜技术，薄膜材料，金属薄膜，反射率
Abstract：Thin film technology and film material have developed rapidly in the past 20 years．New type of thin film materials emerge in a large amount．Film preparation andmicrofabrication technology innovate continuously,thin films application in the hi-techare increasingly pOpiflarity、Because of thin film technology could achieve the device．miniaturized and system integration，thin film technology and thin film materials havebeen widespread concern．The technology of Vacuum Magnetron Sputtering Deposition iswide used on the field of thin film manufacture．Appropriate technics andmanufacturetechnique have important influence to the quality of film．Using magnetron sputteringtechnology,explore different experimental conditions to preparate metal film．On the basis of previous studies，introduces the magnetron sputtering coating principleand magnetron sputtering experimental process．Technique preparation Cu-film，Ti·filmand Cu-Zr metal thin-film，by using of magnetron sputtering，and analyzes of Cu—film，Ti．film optical properties．Analysis of amorphous of Cu—Zr thin films alloys structure by
XRD diffraction experiment。
Key Words ：Magnetron sputtering，Thin film technology，Film materials，Metal thin film
目 录
1 引言 3
1。1 薄膜发展简史 3
1。2 本章小结 3
2 金属薄膜的制备 4
2。1 薄膜的制备方法 4
2。2 磁控溅射原理概述 6
3 Cu 膜制备 9
3。1 实验简介 9
3。2 金属反射膜表征 10
3。3 本章小结 11
结 论 12
参 考 文 献 13
致 谢 14
1 引言
1。1 薄膜发展简史
材料、信息科学技术与能源称为现代人类文明的三大支柱，是新技术的 支柱与先导。国民经济的各部门和高技术领域的发展都不可避免地受到材料发展 的制约或推动。材料科学技术为建设现代工业和现代农业提供基础物质，为传统 产业的更新改造和高技术产业的兴起提供共性关键技术，也为国防建设提供重要 的物资保证。新材料的发展水平已经成为衡量一个国家高技术水平高低和综合力 强弱的重要标志。新材料的制备以及合成，成为新材料发展中最为活跃的领域。 低维材料的开发，非晶态材料及准晶态材料的合成，材料表面与界面上各种特性 的研究，材料的各向异性研究，对亚稳态材料特性的探索，光束、离子束与物质 界面、交界面的相互作等都和薄膜技术有着密切的联系。追溯薄膜的发展，最早 的薄膜是阿拉伯人采用电池电镀的方法制备的金属膜；至 7 世纪，使银从银溶液 中析出，沉积在玻璃表面，从而形成银薄膜；真正的从科学角度系统的研究薄膜 是在十七世纪以后；此后，直至 19 世纪，真镀膜法、化学反应法以及电解法相继问世，逐步形成固体薄膜体系 17 世纪七八十年代，表面物理科学、真空技术 以及薄膜材料制备技术相结合，更是促进了薄膜制备技术的快速发展，同时也推 动了对薄膜产品的开发和利用。例如，液晶显示膜、光学薄膜、建筑玻璃镀膜制 品、刀具硬化膜、集成电路薄膜以及磁盘、光盘等方面有广泛的应用。[1]来自优I尔Y论S文C网WWw.YoueRw.com 加QQ7520~18766 用磁控溅射玻璃基底Cu反射膜制备:http://www.youerw.com/huaxue/lunwen_198223.html