1)薄膜致密均与，并且纯度非常高；文献综述
2)薄膜厚度比较容易控制，结构多样化、成分稳定，薄膜表面较为平整；
3)薄膜与基片结合非常牢固；
4)沉积的介质薄膜保持有块状材料所具备的一些性质；
5)对靶材的要求不是很高；
6)工艺流程非常简单，可以直接应用于实际工业生产中，可以大规模的生产一 些高性能的薄膜。
用磁控溅射玻璃基底Cu反射膜制备(3):http://www.youerw.com/huaxue/lunwen_198223.html
1)薄膜致密均与，并且纯度非常高；文献综述
2)薄膜厚度比较容易控制，结构多样化、成分稳定，薄膜表面较为平整；
3)薄膜与基片结合非常牢固；
4)沉积的介质薄膜保持有块状材料所具备的一些性质；
5)对靶材的要求不是很高；
6)工艺流程非常简单，可以直接应用于实际工业生产中，可以大规模的生产一 些高性能的薄膜。
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