卷绕式真空镀膜机卷绕系统结构设计及CAD图纸(2)
时间:2018-04-22 20:56 来源:毕业论文 作者:毕业论文 点击:次
3 卷绕系统设计及计算 24 3.1镀膜室壁厚设计.25 3.2真空镀膜机张力设计..27 3.2.1张力设计必要性 27 3.2.2张力与转矩卷径的关系 27 3.3镀膜室冷却装置设计.29 3.4电动机选择 30 3.4.1直流电动机 30 3.4.2交流电动机 30 3.5 真空镀膜机升降系统结构设计 32 3.6 冷却辊的设计以及强度校核 33 3.7 上室卷绕系统以及下室位置.35 4.总结 38 致谢 39 参考文献 40 1.绪论 1.1 选题背景及介绍 1.1.1课题介绍 我选择的毕业设计课题是由郑刚老师指导校企合作的毕业设计课题,合作的企业是上海宏昊有限公司。公司专注于真空镀膜机的组装和空气泵的制造，真空镀膜机镀膜是指在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜使塑料表面金属化的方法有很多，如电镀法、热喷涂法、真空镀膜法等都能达到塑料表面金属化的目的．这几种方法中，真空镀膜法是在高真空状态下，采用加热或离子轰击的方法，使金属材料由固态迅速转化为气态，以分子或原子形态沉积在塑料表面形成一薄层金属膜，被认为是塑料表面金属化最有效的手段之一．真空镀膜常用的方法有真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜3种方法，图1为3种常见真空镀膜法的原理示意图。  图1.1.1 蒸镀方法示意结构图 1.1.2选题背景 真空蒸发镀膜在真空环境下加热镀膜材料，使它在极短时间内蒸发，蒸发了的镀膜材料分子沉积在塑料表面上形成镀膜层．此法简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高，是薄膜真空制备中最为广泛使用的技术，但薄膜与基体结合较差，工艺重复性不好，只能蒸发铝这样的低熔点金属．蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由 M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。 蒸发源有三种类型： ①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质。电阻 加热源主要用于蒸发 Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni 等材料； ②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质； ③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于 2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。 蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜，蒸发系统的蒸发舟采用氮化硼电阻式蒸发坩埚,具有电阻小、寿命长等优点。电阻蒸发采用单向可控硅交流调压,由12组主电路和控制单元组成,每组蒸发坩埚独立送丝,总调分调运用自如。既可统一调节,亦可分路调节,是当今国内外最流行,也是最可靠的电阻蒸发方式,已经得到了广泛的推广和应用。蒸发系统的送铝丝机构可前后移动,使铝丝在蒸发舟中前后移动,不但提高了蒸发量,而且还可以延长蒸发舟的使用寿命。真空卷绕式镀膜机的操作台配备PLC加触摸屏的操作界面显示,操作直观、轻松,可根据不同的镀铝膜基材的材料和镀铝膜基材的厚度,设定镀膜工艺参数,实现全自动控制。因此,这种新型的幅1500 mm的卷绕式真空镀膜机,和通常的卷绕式真空镀膜机相比,具有真空度高,抽真空的时间短,卷取性能好,镀膜幅度宽,镀膜速度快,跑偏量小,镀膜层牢固、均匀等优点。是一种理想的卷绕式真空镀膜机。 (责任编辑：qin) |