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1。2。4  纳米多层膜的制备方法

纳米多层膜的的制备方法大体上可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）两种方法，其中物理气相沉积（PVD）技术是经常被用到的方法。

物理气相沉积（PVD）技术包括磁控溅射与离子镀两种，磁控溅射是利用了磁场可以改变电子的运动轨迹的原理，来改变电子的运动行径，使电子做往复的运动，从而提高了电子对工作气体的电离概率，成功的利用了电子的能量，同时也加强了对靶材的溅射速率。而且物理气相沉积（PVD）技术具了低温、高速、低损伤等优点。离子镀是在真空的条件下进行的，是利用气体放电使气体或者被蒸发的物质发生电离，利用气体电离或者蒸发物的电离来把蒸发物或者反应物轰击在靶材上，完成纳米多层膜的制备。文献综述

化学气相沉积（CVD）技术是利用气体物质在靶材表面产生化学反应，从而形成完成纳米多层膜的制备，与物理气相沉积（PVD）技术不同的是，化学气相沉积（CVD）技术的沉积粒子是来源于物质的气象分解反应物。

1。3  铝基复合材料

复合材料是由两种或者两种以上的不同性质的材料通过各种手段复合成的一种新型的材料。不同的基体所制作出的复合材料大体上分为三种，其中金属基复合材料是近半个世纪才被研究较多的一种新型的复合材料，作为复合材料的一个新的分支，在被关注研究开始到现在，金属基复合材料的发展十分迅速，并且以其高强度系数、大弹性模量、耐腐蚀以及耐磨损等优越性能，被广泛应用于汽车行业、航空航天业以及高精度武器等领域，可谓是开辟了一个新的材料应用时代。在金属基复合材料中铝基复合材料是最受关注的一种，因为铝基复合材料具有高强度系数、大弹性模量、质量轻、密度小、可塑性好、耐腐蚀、耐磨损以及热膨胀系数较小等优点，特别是弥散类型的铝基复合材料，更是具备了价格低廉、可加工性以及各向同性等特点[24]。