基于光栅结构的热致变色薄膜辐射特性调控方法研究(2)
时间:2018-07-09 21:18 来源:毕业论文 作者:毕业论文 点击:次
光谱发射率随结构参数的变化情况表明，通过合理选择光栅的结构参数可以让我们获得更好的，更能被前沿科学运用的辐射特性。具有微结构表面的LSMO热致变色薄膜的表面发射率明显增强，相比于光滑表面的薄膜，热致变色特性也起到了明显的改善。故而将光栅结构与热致变色薄膜进行结合性研究，是提升热致变色性能的必须的研究手段和方向。通过对二者的结合性研究，更有利于我们得到热辐射性能最好的结构， 1.2 热致变色薄膜微结构发展现状 1.3 研究内容 本文研究内容，包括以下几点： 1.构建基于热致变色薄膜的光栅结构计算模型，即建立二文以硅为基底，覆盖La0.8Sr0.2MnO3薄膜的微结构模型，通过固定微结构方孔的边长和填充因子，通过改变方孔深度的大小，模拟在真空环境下，用2.5~25um的电磁波照射该微结构，来研究深度变化对辐射特性的影响。 2.利用Rsoft软件对光栅微结构进行计算，并对实验结果进行分析。即通过Rsoft软件建立模型计算出热致变色薄膜的反射率，当然，有些数据的处理会在可控范围内偏离实验需要的准确值，但可以采用这些值作为参考量，进而得到其发射率参数，通过处理这些可用的实验数据，最后运用Origin软件对这些反射率数据进行批量有效的处理，得到曲线走势图，进一步通过曲线图可以直观的表现出在不同温度下，相同深度的影响。 3.综上所述，通过一系列的构建模拟图，模拟实验，得到有效数据，分析这些数据，进而分析微结构参数对热致变色薄膜辐射特性的影响，也就是通过计算在不同槽深光栅结构下的该结构的热辐射特性，得出其变化趋势，从而得到最优化的光栅结构。 (责任编辑：qin) |