真空镀膜技术国内外研究现状
时间:2018-04-22 21:01 来源:毕业论文 作者:毕业论文 点击:次
| 真空镀膜技术是真空应用技术的重要组成部分，是一项综合的、应用范围很广的先进技术，是许多前沿学科发展的基础技术之一，同时也是当今信息时代中许多高新技术发展必不可少的手段。 真空镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景 特别是在制造大规模集成电路的电学膜：数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜：在能充分展示和应用各种光学特性的光学膜；在计算机显示用的感光膜；在TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜；在建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜；在包装领域用防护膜、阻隔膜；在装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜；在工、模具上应用的耐磨超硬膜：在纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等等都是真空镀膜技术及设备在广泛应j{j的基础上得到的不断发展的领域。从中国的真空镀膜技术及设备的发展历史来看，是从20世纪60年代开始的，从无到有，从模仿设计、自行研制到技术引进，并在技术引进的基础上促进了自行研制和发展，特别是在20世纪80-,90年代我国的真空镀膜技术及设备都取得了长足的发展，在一些薄膜的应用领域里甚至得到了跨越式的进展。但随着中国进入WTO和世界经济全球化进程的加快，我国的真空镀膜技术及设备已经面临和正在面临着国外拥有先进的真空镀膜技术和设备的跨国公司的强有力的竞争和挑战，这种竞争和挑战迫使我们要同世界贸易组织的其它成员国一样，在同等条件下参与整个世界市场的竞争。但机遇也伴随竞争和挑战降临，主要的机遇在于中国入世后将逐步成为世界各经济国的加工基地，同时设备制造的国际性优质配件的采购也将更容易，采购成本也会降低，国产设备品质会得到大幅度的提高。从目前真空镀膜设备的市场发展现状来看，国外许多实力雄厚的真空镀膜设备生产商已在中国成立了许多合资或独资的加工企业，并将一些新的真空镀膜工艺技术和产品移植到这些企业中来。因此我国真空镀膜设备在今后三～五年内的主要市场除了国内的企业外，外商投资企业也是设备需求新的增长点。真空镀膜工艺技术的不断发展，也推动了真空镀膜设备的不断更新，真可谓是一代工艺、一代设备，而各类新的真空镀膜设备的出现，又为先进、复杂的工艺应用于工业化生产提供了可靠的保证。以下将从真空镀膜设备的几个主要应用领域，简述国内外真空镀膜应用技术及设备的基本现状及主要差距。21612 2在光学应用领域 真空镀膜技术在光学领域的应用近年来是发展得非常快的。在各种光学零件的光学镀膜方面，主要是利用传统的电阻蒸发、电子束蒸发、低压等离子辅助镀膜、磁控溅射的方法来制备各种具有光学特性的镜片和棱镜，在有机或无机材料上镀宽带增透膜、红外膜、激光膜、冷光反射膜、热保护滤光片、宽带干涉光片、硬质增透膜等光学薄膜。平面玻璃镀膜也是大面积光学镀膜应用的一种，它主要是利用高速磁控溅射技术在大面积的玻璃表面镀制膜层厚度均匀，并且具有各种光学特性的薄膜，如高透明度、色泽中性、低辐射率(Low．E)薄膜：低辐射率与太阳能控制(Low．Esun or sunbelt Low．E)的组合特性薄膜；具有各种透光特性和反射不同色彩的阳光保护膜(solar contro1)；用于汽车玻璃的透明、导电、防热辐射膜；用于TFT、PDP平板显示技术的透明导电膜和防护膜：用于光通讯方面的DWDM特性膜，用于背投电视的反射成像膜层等。完成以上各种光学薄膜制备的设备是多种多样的，主要是箱式真空镀膜机、隧道式连续磁控溅射台等。目前国内外这类设备的主要生产厂家有：论文网 (责任编辑：qin) |