磁控溅射制备CdO基透明导电薄膜及其性能研究
时间:2024-02-18 09:44 来源:毕业论文 作者:毕业论文 点击:次
摘 要:近几十年来,随着相关技术的创新,透明导电薄膜变得越来越受欢迎。CdO在室温下就可获得高质量的薄膜,并具有高载流子浓度、高迁移率、高透过率等特点。由于CdO薄膜在可见光透明率高,因此近几年来被人们用来代替CdS,与CdTe、CuInSe2以及Si等形成异质结太阳能电池,并取得了不错的效果。本文介绍了透明导电薄膜的研究背景、制备方法以及磁控溅射的原理,并介绍了CdO薄膜的性质,对各种CdO薄膜的制备方法进行了比较。在此基础上,本文利用直流反应磁控溅射法制备了透明导电的CdO薄膜,并对CdO薄膜进行了性能测试及研究。93962 毕业论文关键词:透明导电薄膜,磁控溅射,CdO薄膜,性能研究 Abstract:In recent decades, with the related technology innovation, transparent conductive film has become increasingly popular。CdO can obtain high quality film at room temperature, and has high carrier concentration, high mobility, high transmittance and so on。Because CdO film has high visible light in the visible light, it has been used in recent years to replace CdS, and CdTe, CuInSe2 and Si and other heterojunction solar cells, and achieved good results。In this paper, the research background, preparation method and magnetron sputtering principle of transparent conductive thin films are introduced。 The properties of CdO films are introduced, and the preparation methods of CdO films are compared。On this basis, a transparent conductive CdO thin film was prepared by DC reactive magnetron sputtering method, and the performance of CdO film was tested and studied。 Keywords:Transparent conductive film,Magnetron sputtering,CdO film,Performance study 目 录 第一章 绪论 4 1。1 透明导电薄膜研究背景 4 1。2 薄膜的制备方法 4 1。3 磁控溅射原理概述 6 第二章 CdO的性质 8 2。1 CdO的晶体结构 8 2。2 CdO的光电性质 8 2。3 CdO的气敏性质 9 2。4 CdO薄膜的制备方法 9 第三章 直流磁控溅射制备CdO薄膜 10 3。1磁控溅射薄膜的制备 10 3。2 CdO薄膜的制备过程 11 3。3 CdO薄膜的测试结果与讨论 11 结 论 16 参考文献 17 致 谢 18 第一章 绪论 1。1 透明导电薄膜研究背景 时代在进步,科学在发展,为了崇高的探索理想,为了更便捷舒适的生活,薄膜技术进入到人们的视野,引起了世界范围内的高度关注。薄膜技术是综合性的技术,要求广泛的学科理论基础,所以不光是物理学的人在研究,其他学科的人也很关注它。尤其是最近这些年,薄膜产业大大的优点使得它的发展出乎意料,各国争先恐后研究它,足以见得研究它有非常深远的意义。 透明导电氧化物薄膜,简称TCO。具有以下优点,1可见光的范围内具有高透射率,2具有低电阻率高导电性。比起其他类型的薄膜,这两点具有不可阻挡的优势,如果运用得当,将会带来新的变革。所以是国际上研究的主流就是它。早在1907年,科学家Badeker就通过Cd膜经过辉光放电室进行氧化,最终得到了CdO薄膜。自此之后,人们意识到了这种薄膜的好处,就开始加大对这种薄膜的研究力度。然而,透明导电氧化物薄膜的使用也是有很多的限制,它们的禁带宽度比较大,而510nm大概是太阳可见光波段能量最高的地方,因此可以看出普通的TCO材料只能被用在太阳能电池的透明电极上。 (责任编辑:qin) |