梯度纳米晶体铜拉伸全场应变分析(4)_毕业论文

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梯度纳米晶体铜拉伸全场应变分析(4)

图2.1Grid示意图

2.2 ROI选择

ROI是我们在ReferenceImage上根据观察需要所选择的区域。若Mask是刻蚀出图案的光刻胶,那么ROI便是掩膜板上的图案,通过图像处理软件选择ROI,再对其进行处理获得图2.2下半部分所示Mask(ROI必须是连续的,原因参见2.4部分“格点遍历”)。值得注意的是,选择ROI时,须将宏观裂纹、断口挖去,从而保证这些缺陷周围的大变形区域应变计算准确,图2.2为ROI选取示意图。

(责任编辑:qin)