MBE和MOCVD生长GaAs光电阴极的表面清洗工艺比较研究(4)_毕业论文

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MBE和MOCVD生长GaAs光电阴极的表面清洗工艺比较研究(4)

     非破坏性是XPS最为突出的优点,由于软X射线对大部分材料都是友好的,样品可以承受比进行XPS分析长得多的X射线照射时长,因此大多数样品在接受XPS分析后还能保留表面原状,从而进行进一步的分析或实验。此外,XPS的另外一个优势是化学键的状态获取更为简单。这是因为由原子电子态的变化引起的结合能的变化(也称化学位移),如原子的价电子和原子间的距离,通常都大于俄歇电子能谱分析(AES)所测得的化学位移[17]。来;自]优Y尔E论L文W网www.youerw.com +QQ752018766-

                 图2。1  XPS原理图                            图2。2  XPS谱图

2。1。2  激励源(扫描微焦点X射线源)

    扫描微焦点X射线源是一个可以在样品上放射单色光束的X射线源。目前,使用最为广泛的是Al Kα射线源和Mg Kα射线源。X射线束的直径能够在几十到几百µmφ之间设置,扫描范围可以任意改变,可以保证样品可以在最为合适的区域进行分析。基于此功能的还有二次电子图像观察(SXI:扫描X射线图像),如图2。3。该功能可以进行迅速、精确的分析定位设计。除此之外,它支持多点同时分析、线分析、大面积的测量和分析。

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