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（1） 除了触发反应，整个钎焊过程中不需要加入任何热源；
（2） 反应过程无需气体保护，并且可以在正常大气压下进行；
（3） 焊接过程中所连接的组件没有明显的温度变化。
因此，对于温度敏感件以及大组件来说，无需再考虑由于温度的变化导致工件变形所带
来的不良影响。本实验所采用的是Al/Ni纳米多层膜。
1。2。1 纳米多层膜的分类
（1）氮化物/氮化物系列纳米多层膜
氮化物具有硬度高、熔点高、抗氧化性好、热稳定性好以及抗腐蚀等优点，特别是在过渡族的金属氮化物，总是被用来制作表面的强化材料，来提高被镀金属材料的表面性能。
（2）金属/金属系列纳米多层膜
这种系列的纳米多层膜无论是结构还是在成分上都是比较简单的。
（3）金属/碳（或氮）化物系列纳米多层膜
纳米多层膜被研究比较多的薄膜材料中有一种是金属/碳（或氮）化物系列，金属/碳（或氮）化物系列纳米多层膜也会出现超硬现象。
（4）类金刚石系列纳米多层膜
近年来研究较多的薄膜材料中另外一种是类金刚石膜，类金刚石膜继承了很多金刚石相似亦或者相近的优越性能，例如，弹性模量高、硬度高以及摩擦系数低等，但是类金刚石膜沉积是会产生很大的内应力，会降低基体与膜的结合，甚至会导致脱落现象。论文网
1。2。2 纳米多层膜成分、结构表征方法
相比于传统的膜结构来说，纳米多层膜的表征难度非常大。在表征纳米多层膜时需要考虑很多问题，因为不仅要表征纳米多层膜的结构与形态，还需要表征纳米多层膜的调整频率及其层间的生长状况。由于纳米多层膜的数量级是在原子或者纳米尺度的，为了了解纳米多层膜的结构与性能之间存在的关系，所以在表征时要保持在原子数量级和纳米数量级上对纳米多层膜进行表征。纳米多层膜的结构表征可以用俄歇电子能谱(AES)和小角X射线衍射（LXRD）进行验证，以及可以用透射电镜对其直接进行观察。纳米多层膜的成分可以利用X射线衍射（XRD）和俄歇电子显能谱(AES)来对其进行分析。
1。2。3 纳米多层膜性能
纳米多层膜是纳米级的材料，所以其具备了很多特性：
（1） 超硬性
纳米多层膜的尺度非常小，晶体中产生的位错会由于膜结构抑制，对材料的硬度产生影响，同时纳米多层膜的硬度也与其组成的材料成分、各个组成材料的百分比以及纳米多层膜的调制频率存在着很大关系。
（2） 耐高温氧化性
纳米多层膜结构中会加入氧化性很高的材料，大部分的纳米多层膜中具有Al元素，而Al在遇到氧化性环境时会迅速被氧化并且会产生一层致密的氧化铝薄膜覆盖在表面，避免了继续被氧化，从而避免了高温被氧化的影响，抑制具备了耐高温氧化的性能。
（3） 耐磨损性
由于纳米多层膜的晶粒尺度很小，所以会在纳米多层膜结构中产生大量的缺陷，这些缺陷造成纳米多层膜内部会产生很多相互交错晶面，晶面的耐磨性大于晶粒内部，导致纳米多层膜的整体耐磨性变高。同时由于纳米多层膜的硬度超高，也使纳米多层膜的耐磨性变强。
（4） 其他性能
除了具备硬度高、耐高温氧化性以及耐磨性外，纳米多层膜也具备了电磁学、特殊光学等性能[20-22]，还可以用作一种低维人工半导体材料[23]。