以下是其余几种方法的概述和优缺点。

     分子束外延技术（MBE）的本质是一种单晶薄膜物理沉积法，真空环境下，通过一系列的物理方法使粒子产生分子束流，然后衬底碰撞，经过表面的作用生成需要的膜。MBE有一些缺陷，其生长速率过低，且制造和维护成本过高，限制了该法的普及。但其仍有许多优越的条件，如可以较容易地控制薄膜的组分，还能够进行原子操作，实现高纯度的掺杂，亦能在低温状态下进行外延生长。

随后开始普及的方法是脉冲激光沉积技术(PLD)。该方法用高强度脉冲激光照射真空环境中的靶材表面，显然温度会升高非常多。物理反应后，致密的离子体就可形成，全部向衬底方向移动，然后跟其他方法一样，沉积成膜。PLD法优点如下：1、可稳妥把控；2、污染极少，易清洁，符合当今社会的环保主题；3、材料利用率高，成本低。PLD的缺点也显而易见：1、薄膜的生长缓慢，相当耗费时间；2、平整性欠缺。这就造成了它没有多大的商业价值，发展有限。

    溶胶-凝胶法(Sol-gel)是综合性的方法，灵活性大，根据具体的实验情况，可选用物理方法，或者化学方法。其优势是操作过程较简便，且反应的温度较低，便于大面积镀膜。但是，它也有很多不可避免的缺点，如原料贵，有些原料是有机物，会对健康有不良影响；陈化时间较长； 用Sol-gel法制得的CdO薄膜的光学性能很好但是电阻率偏高。

喷雾热分解法((Spray pyrolysis)易操作，不仅具有设备简单、性价比高的优点，还可以大面积成膜，是一种具有广阔发展前景的成膜方法。但是，该法制备得到的CdO薄膜光电性能均较差，透过率均低于80%，普遍过低。

    通过对以上各种制膜方法的介绍和分析，我们不难发现其实各种制膜方法都有它的优势和不足。不同的制膜方法和工艺参数直接影响CdO薄膜的厚度、结晶方向，表面特征以及光电等性能的差异。

1。3 磁控溅射原理概述文献综述

    本论文研究的磁控溅射法，前面已经介绍过，归类于物理气相沉积法，是将磁控原理和溅射技术相结合的一种方法。该法有一个巨大的优点，其余方法望尘莫及。它一般能制备任何物质和与之相对应制成的薄膜材料，且能有效克服经常遇到难题，比如阴极溅射速度的大小难以提高、基片温度难以掌控等问题，因此非常受欢迎，应用范围极