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PN结射频磁控溅射硅材料为衬底PN结的制备(3)

时间:2021-09-14 21:42来源:毕业论文
BN方结晶作为目前硬度最大的物质,其维氏硬度只比金刚石大了8GPa。在许多的方面BN与C 也具有一定的相似性,如有类似于金刚石的sp3键合的相,也有类似

  BN方结晶作为目前硬度最大的物质,其维氏硬度只比金刚石大了8GPa。在许多的方面BN与C 也具有一定的相似性,如有类似于金刚石的sp3键合的相,也有类似于石墨的sp2键合的相[4]。如下表和图所示:

2.2氮化硼的性质与应用

  1.hBN属于六方晶系,结构和石墨类似,层内氮原子和硼原子之间的作用力是强的sp2共价键,层间氮原子和硼原子之间的作用力是弱的范德瓦尔斯键,所以层间间距较大易于滑动,是很好的润滑剂

  2.rBN属于三方晶系,结构和hBN相似,晶格常数a=2。5042Å,c=9。99 Å。它的密度为2。276g/cm[5]。

  3.wBN属于六方晶系,纤锌矿结构。氮原子和硼原子之间以sp3杂化方式成键,具有较高的硬度,用于切削刀具等

  4.cBN属于立方晶系,可以由hBN在高温高压下转化而成,有正四面体结构和闪锌矿结构两者,其中闪锌矿结构和金刚石结构是一样的,所以硬度很大而且cBN对铁族金属有着良好的稳定性,可以加工金刚石不宜加工的钢铁材料,还可以用来作为仪器的保护层和光学表面涂层等。来*自-优=尔,论:文+网www.youerw.com

3.射频磁控溅射法

3.1射频磁控溅射技术的发展

  溅射沉积是在真空环境下,用等离子体来轰击靶材,使靶材表面的原子或者离子脱离出来,最后沉积在衬底表面形成薄膜。追其起源,要从1852年Grove在气体辉光放电管中发现离子对阴极材料的溅射现象说起,直到1963年才实现溅射镀膜产业化。就技术层面上讲溅射发展经历了二级溅射→传统磁控溅射也就是平衡磁控溅射→非平衡磁控溅射→脉冲磁控溅射→磁控溅射技术新型应用。所以二级溅射是溅射沉积基础,它确定了溅射沉积的原理和方式。下表展示了部分溅射方式的优缺点

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