摘要：近年来，薄膜材料和薄膜技术获得迅速发展。透明导电薄膜作为功能薄膜中极其特色的一种光电材料，在光电领域拥有广泛的用途。透明导电薄膜的制备方法很多，其中磁控溅射技术具有高速溅射、基板低温、低损伤等优点在薄膜的制备领域有着广泛的应用，所以对透明导电薄膜的磁控溅射制备及其性能的研究无论在理论还是在实际应用上都具有十分重要的现实意义。但在制备过程中也存在一些问题，本文中采用磁控溅射技术，探索不同的实验条件制备薄膜。在前人研究的基础上，介绍了磁控溅射透明导电薄膜的制备以及对其性能进行了进一步的研究。74866

毕业论文关键词:  磁控溅射，薄膜技术，薄膜材料，透明导电薄膜

Abstract： performance research both in theory also is it is of very important realistic significance in practical application。 第一章 绪论 3

1。1 透明导电薄膜发展简史 3

1。2 透明导电薄膜材料的研究 4

1。3 柔性透明导电薄膜 7

1。4 本章小结 8

第二章 透明导电薄膜的制备 8

2。1 透明导电薄膜的制备方法概述 8

2。2 磁控溅射原理概述 9

2。3磁控溅射制备柔性透明导电薄膜 11

第三章 实验结果及讨论 12

3。1 薄膜的晶体结构 12

3。2 薄膜的透射率 13

3。3 薄膜导电性能分析 14

3。4本章小结 14

第四章 结论 16

参考文献 17

致谢 19

第一章 绪论

1。1 透明导电薄膜发展简史

材料、信息科学技术与能源称为现代人类文明的三大支柱，是新技术的支柱与先导[1]。国民经济的各部门和高技术领域的发展都不可避免地受到材料发展的制约或推动。材料科学技术为建设现代工业和现代农业提供基础物质，为传统产业的更新改造和高技术产业的兴起提供共性关键技术，也为国防建设提供重要的物资保证。新材料的发展水平已经成为衡量一个国家高技术水平高低和综合国力强弱的重要标志。

新材料的制备以及合成，成为新材料发展中最为活跃的领域[2]。低维材料的开发，非晶态材料及准晶态材料的合成，材料表面与界面上各种特性的研究，材料的各向异性研究，对亚稳态材料特性的探索，光束、离子束与物质界面、交界面的相互作用等都和薄膜技术有着密切的联系。论文网

追溯薄膜的发展，最早的薄膜是阿拉伯人采用电池电镀[3]的方法制备的金属膜；至7世纪，使银从银溶液中析出，沉积在玻璃表面，从而形成银薄膜；真正的从科学角度系统的研究薄膜是在十七世纪以后；此后，直至19世纪，真空镀膜法、化学反应法以及电解法相继问世，逐步形成固体薄膜体系；19世纪七八十年代，表面物理科学、真空技术以及薄膜材料制备技术相结合，更是促进了薄膜制备技术的快速发展，同时也推动了对薄膜产品的开发和利用[4]。例如，液晶显示膜、光学薄膜、建筑玻璃镀膜制品、刀具硬化膜、集成电路薄膜以及磁盘、光盘等方面都有广泛的应用[5]。 磁控溅射透明导电薄膜的制备及其性能研究:http://www.youerw.com/wuli/lunwen_85580.html