Keywords: MEMS；Magnetoresistive sensor；UV-LIGA
目录
第一章 绪论 1
1。1 微机电系统简介 1
1。1。1 MEMS发展史 1
1。1。2 MEMS的基本特征 2
1。1。3 MEMS的发展趋势 3
1。1。4 MEMS市场预测 4
1。3 本文的研究目的和意义 6
1。4 主要研究内容 6
第二章 MEMS磁阻传感器的原理和设计 7
2。1 MEMS磁阻传感器的原理 7
2。2 MEMS磁阻传感器的设计 7
2。3 试样制备的总体工艺流程 9
2。4 实验仪器 10
2。5 小结 12
第三章 磁阻传感器制备及工艺优化 13
3。1 UV-LIGA 技术 13
3。1。1 UV-LIGA 技术工艺过程 13
3。1。2 UV-LIGA 技术的工艺难点 14
3。2 磁阻传感器工艺流程 15
3。2。1 衬底材料对光刻工艺的影响 15
3。2。2 表面处理 17
3。2。3 光刻胶 17
3。2。4 涂胶 18
3。2。5 前烘 19
3。2。6 曝光与后烘 21
3。2。7 显影 22
3。2。8 溅射 23
3。3 电镀实验 24
3。3。1 电镀工艺 24
3。3。2方法 25
3。3。3 镀液的配制 26
3。4 实验结果与分析 26
3。3 小结 28
第四章 结 论 29
致谢 30
参考文献 31
第一章绪论
1。1 微机电系统简介
始于1960年左右的微机电系统技术，由半导体工艺中的微细加工技术融合机械工艺中的微型机械加工技术，并应用于现代的信息技术中，发展而来的一项有前景的高新技术[1]。
目前，主要有三种技术途径：（1）硅基微加工技术是以美国为代表，这项技术的基础是集成电路加工技术；（2）以德国为代表的LIGA技术；(3)以日本为代表的精密加工技术[2]。
一个完整的MEMS系统是微型传感器、执行器还有相关的控制电路为主要的。图1-1是一个典型的系统和外界的彼此作用示意图，而且通过传感器将物理信号转换为电信号，经过信号处理后，再通过执行器与外界作用。为系统可以采用数字或模拟信号与其他微系统通讯，其主要是把信息的获取、处理和执行结合在一起，形成具有多功能的微型系统，集成在大尺寸系统里，这也就大幅度提高系统的自动化，还有智能化和可靠性水平。
图1-1 MEMS与外界联系示意图 UV-LIGA的MEMS磁阻传感器芯片的线圈工艺研究(2):http://www.youerw.com/cailiao/lunwen_105062.html