一、毕业设计(论文)内容及要求1 实验条件金相试样预磨机、金相试样抛光机、JGP型多靶磁控溅射仪、CPX+NHT2+MST纳米力学综合测试系统、JSM-6480型扫描电子显微镜(SEM)及附带的能谱仪(EDS)、UMT-2型高温摩擦磨损仪等。80301
2 设计内容与要求
设计内容与要求:
(1)采用磁控溅射法制备出不同Si含量的ZrN/Si纳米复合膜;
(2)采用CPX+NHT2+MST纳米力学综合测试系统对薄膜的硬度进行测试,利用JSM—6480型扫描电子显微镜(SEM)及其附带的能谱仪(EDS)对薄膜的表面生长形貌及组分进行分析;
(3)采用UMT—2型高温摩擦磨损仪对薄膜进行室温及高温摩擦磨损测试,并对薄膜摩擦磨损性能进行分析。
二、完成后应交的作业(包括各种说明书、图纸等)
1。 毕业设计论文一份(不少于1。5万字);
2。 外文译文一篇(不少于5000英文单词)。
三、完成日期及进度
月3日起至 5月27日止
进度安排:论文网
1、文献检索与阅读: 2016。3。3~2016。3。14(2周)
2、设计与实验: 2016。3。17~2016。5。17(9周)
3、撰写论文: 2016。5。17~2016。5。21(1周)
4、教师论文评阅与答辩: 2016。5。21~2016。5。28(1周)
四、主要参考资料(包括书刊名称、出版年月等):
1、李旸,陈欠根。表面涂层摩擦机理研究[J]。岳阳师范学院学 报。2000,13(4):15-17。
2、吴化胜.ZrN/Al-Si-N多层膜与Al-Si-C-N复合膜的制备及性能
研究[D].江苏镇江:江苏科技大学硕士学位论文.2011:4-6。
3、C。C。 Tseng, J。H。 Hsieh, S。C。 Jang, Y。Y。 Chang, W。 Wu。 Microstructural analysis and mechanical properties of TaN–Ag nanocomposite thin films。 Thin Solid Films, 2009, 517: 4970–4974。
4、W。 M。 C。 Yang, T。 Tsakalakos, J。 E。 Hilliard。 Enhanced elastic modulus in composition-modulated gold-nickel and copper-palladium foils[J]。 Journal of Applied Physics, 1977, 48(3):876-879。
5、 S。 Veprek。 New development in superhard coatings: the superhard nanocrystalline-amorphous composites[J]。 Thin Solid Films, 1998, 317(1-2): 449-454。
6、 S。 Veprek, S。 hristiansen, M。 Albrecht, et al。 Mater。 Res。 Soc。 Symp。 Proc。 1997, 457: 407-415。
7、 Z。 J。 Liu et al。 Effects of amorphous matrix on the grain growth kinetics in two - phase nanostructured films: a Monte - Carlo study [J]。 ActaMaterial, 2004,52: 729 ~736。
8、 Ming Kong, Wenji Zhao, LunWei, Geyang Li。 Investigations on microstructure and hardening mechanism of TiN/Si3N4 nanocomposite coatings[J]。 Journal of Physics D: Applied Physics,2007,40:1-6。
9、S。 H。 Kim et al。 Influence of deposition conditions on the microstructure and mechanical properties of Ti-Si-N films by DC reactive magnetroa sputtering[J]。 Thin Solid Films, 2002, 420-421: 360-365。
10、 Lars Hultman, et al。 Interface structure in superhard TiN-SiN nanolaminates and nanocomposites: Film growth experiments and ab initio calculations [J]。Phys Review B, 2007, 75:155-157。
Si元素含量对ZrN基薄膜的摩擦磨损任务书:http://www.youerw.com/renwushu/lunwen_93204.html