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    1.1.2.3 在发光材料中的应用
    二氧化铈在发光材料中的用量与日俱增。目前国内生产高级、中级和低级三种级别的CeO2抛光粉。具有代表性的高级钵抛光粉是A一8 型和高铈粉一1型。
    在抛光粉的应用中,它主要通过影响了抛光面的亮度,硬度,深度以及纯度,但是二氧化铈可以克服以上的问题,达到,进一步提高抛光的光亮度,使其光亮新鲜,在硬度上,可以基本上达到坚硬,非常耐摔,在关于进一步加强深度的方面,二氧化铈可以使抛光的深度进一步提高,做到几乎看不出抛光效果的情况。近几年来随着IC用光掩膜基板等新型材料领域的开放,对于抛光粉的要求越来越高,这样在加入二氧化铈的情况下,将进一步解决一系列的问题使抛光技术得到进一步的发展。
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