图 1-4 反射马赫曾德干涉仪型 VOA

1。3 集成光学工艺 采用集成光学技术制作可调光衰减器，其集成工艺一般为光刻，刻蚀等微加工工艺。 随着 PLC 技术日益成熟，基于 Si 的集成产品有以下优点：低成本，高性能，高稳定

性，高集成度以及有较高的电光及热光系数【10】。目前，集成光学工艺最青睐的两种材料 是二氧化硅和聚合物。SOI 即 Silicon On Insulator 指绝缘层上的硅薄膜，近年来由于 其优良的光学性能以及高集成度，并且与 COMS 相兼容，基于 SOI 以热光效应为原理的衰来~自,优^尔-论;文*网www.youerw.com +QQ752018766-

减器受到广泛关注【9】。相比于 材料，SOI 光波导对光束的约束能力更强，研究表明基 于 SOI 光波导的马赫干涉仪消耗电源功率相比较而言更大，因为材料的热光系数较低。

聚合物平面光波导技术的先进发展让聚合物技术成为制造高集成度大规模低成本光 学器件的首选。聚合物极其适合实现集成热光器件，一方面是因为价格比较低，另一方

面在实验室使用聚合物制备器件更加简单，方便。更因为其热光系数 dn/dT 的绝对值远 大于玻璃，具有非线性光学系数较大、介电常数相对较低、容易与半导体器件和光纤集 成等优良性能。【11】热光聚合物可调光衰减器包括很多类型，例如基于马赫曾德干涉仪， 基于多模干涉耦合器，基于电光开关，它们已经有过报道，其中有部分已投入商业使用。 可以用于制备有更高的调制频率和较低驱动功率的光调制器、光开关阵列、激光器、阵 列波导光栅、滤波器等等。文献【7】中介绍了聚合物光波导的常见制作方法:激光蚀刻法， 即使用短波长紫外光束照射基片，然后就可在聚合物薄膜上刻蚀出所需波导。其具体步 骤如图 1-3 所示。使用紫外激光蚀刻技术制造的光器件，有效的减少了波导材料的剩余