面应用最为广泛【10】。
1.2.1 系统原理和构成
FIB 系统与扫描电镜(Scanning electron microscopy,简称 SEM)的原理非常类
似,两者都是利用聚焦束,SEM是利用电子束,而 FIB 系统利用外加电场集中加速聚
焦离子束轰击样品表面(通常用 Ga+
,它的好处有两点: (a)Ga 具有低熔点,因此在
接近室温下呈液态。 (b)Ga 能被会聚成非常细小的探针(直径<10nm)) 。图 1-5 显示了
FIB 的基本工作原理,FIB 加速电压通常在 5 到 50keV 之间。离子源在 FIB 系统的最
上端,离子经过外加电压的作用后,运动路径和速度发生变化,穿过离子柱腔体内的
一系列透镜(静电透镜、四极偏转透镜以及八极偏转透镜)后,形成很小的离子束斑
(通过控制静电透镜和调整限束孔径,束斑直径可在5nm 至 0.5μm 之间变化) ,轰击
位于样品台上的样品,产生的二次电子和二次离子被收集,并形成用于观察和分析的
高分辨率图像。FIB 系统的工作须在<7×10-5
Pa 的条件下进行,这样可以防止离子束
受杂质的影响,通常金属腔体与离子泵可为实验提供高真空环境[11,12]。 双束系统在透射电镜样品制备中的应用(4):http://www.youerw.com/cailiao/lunwen_12817.html