离子镀法制备的薄膜具有附着力强、结构致密的优点，能对表面复杂的基底进行更有效的覆盖。高晓明[31]等人采用多弧离子镀沉积Ag-Cu薄膜，得到的薄膜结构致密，材料耐氧化性能和抗磨损强度有所增强。

2。1。4  反应蒸发法

反应蒸发指的是通过物理手段蒸发金属等化合物靶材，蒸发出来的物质与活性气体反应生成化合物沉积在基底上。

陈新亮[32]等人使用电子束反应蒸发法蒸发In2O3、MoO3靶材，与O2活性气体反应制备IMO薄膜，研究了薄膜的结构、电学和光学性能。马瑾[33]等人通过真空反应蒸发法，以氯化锌作为靶材，O2作为活性气体制备了电导率和透过率均较高的ZnO薄膜。

2。1。5  离子束辅助沉积（IAD）

IAD法利用独立离子源对基底轰击，结合高速蒸发法和偏压溅射离子轰击法的优点，使离子束的能量与方向均可调。用离子对薄膜的轰击，使所沉积的薄膜中的粒子获得额外的能量，从而提高薄膜的光学性能和机械性能等。来`自+优-尔^论:文,网www.youerw.com +QQ752018766-

傅晶晶[34]等人通过IAD法制备了在近红外1520-1580nm范围的增透膜。

2。2  化学沉积法

2。2。1  热生长

在一定气氛环境中，加热基底可以得到大量氧化物、氮化物和碳化物薄膜，如在Al基底上通过加热的方式形成氧化铝薄膜。由于其工艺上的限制性，所以热生长法并不是常用技术。

2。2。2  化学气相沉积（CVD）

CVD法是通过原子或分子间发生化学反应来形成薄膜的方法。MAJJI[35]利用等离子体增强化学气相沉积法（PECVD），在硅基底上沉积Ag/DLC薄膜，并证明了工作压力的改变会影响材料的实用性能。