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    续表 实验所用仪器

    2.2 实验材料及装置
    2.2.1实验材料
    基体材料:40mm×20mm×0.3mm规格  铜板
    阳极材料:150mm×30mm×2mm 规格  铁阳极板
    2.2.2实验装置
     
    图2.1 实验脉冲电镀装置图
    2.3 工艺流程
    2.3.1 镀片的前处理
    由于在铜片的表面暴露在空气中因而存在着一些杂质、氧化层、油污层等,处理不当,则会在很大程度上影响电镀的质量。因此要想得到结合力好的镀层,必须进行一系列的镀前处理工作。
    铜片镀前处理工艺流程如下: 自来水冲洗→打磨 →自来水冲洗→去离子水冲洗→热水冲洗→自来水冲洗→去离子水冲洗→稀盐酸除锈→去离子水冲洗→入槽电镀
     ①打磨:按顺序分别用0#~6#金相砂纸(上海砂纸厂生产)对铜片进行打磨,打磨以出现近似镜面效果为佳。
     ②稀酸浸蚀:稀酸浸蚀是一种比较强烈的表面净化过程,主要可以用于除去零件锈蚀产物和氧化膜等,方便快捷,处理地也比较干净。盐酸对金属氧化物具有较强的溶解能力,并且铜单质与稀盐酸不发生反应,因此不会造成额外的次生处理,不会导致基体过腐蚀并引起氢脆。盐酸的浸蚀能力虽然和其浓度成正比,但由于浓盐酸的挥发性较大因此不使用浓盐酸,室温下一般不超过360g/L,在加热情况下使用的盐酸浓度应更低一些。本实验中使用稀盐酸的浓度为5%(质量分数),浸蚀时间为1~3min。
    2.3.2电镀液的组成
    电镀液配方如下:
    表2.3 电镀液的配方
    工艺配方因素    含量(g/L)
    氯化亚锡
    焦磷酸钾
    酒石酸锑钾
    硫酸肼
    明胶    12
    2.3.3电镀溶液的配制
    称取100g焦磷酸钾,1.28g酒石酸锑钾,4.8g硫酸肼溶于蒸馏水中,搅拌并加热一小会溶解,再称取1.6g氟化铵溶于水中,0.15明胶加入100g的蒸馏水,加热至60摄氏度以上并不断搅拌使之溶解,再加入少量的稀盐酸防止水解,最后称取4.8g的氯化亚锡溶于水,定容至500ml。
    2.3.4电镀流程
    将小烧杯放入电镀槽中,放入转子,将之前处理的铜片作为阴极,阳极板为铁板,使两板相互平行,间距为30mm左右,并且不与烧杯底部接触,以防止与磁转子相碰。在pH值为7.5,温度为20℃,磁力搅拌转数360rpm/min的条件下进行电镀。
    2.4工艺条件的选择
    2.4.1 镀层工艺条件的选择
    ①锑离子浓度的选择
    分别称取酒石酸锑钾0.08g,0.10g,0.12g,0.15g溶于水制成电镀液
    ②电流密度的选择
    电流密度分别选取5A/dm2、8A/dm2、10A/dm2、15A/dm2、20A/dm2,并分别测定该镀层的分散能力,深镀能力等
    ③频率的选择
    正向电流密度为10A/dm2,频率分别选取100Hz、200Hz、2000Hz、2500Hz、5000Hz,并分别测定该镀层的分散能力,深镀能力等
    ④电镀时间的选择
    施镀时间分别选取30s、1min、3min、5min、10min,并分别测定该镀层的分散能力,深镀能力等。
    2.5 实验内容
    2.5.1  镀层外观的测定
    检验时用目力观察,按照 外观可将毒箭分为合格的,有缺陷的和废品三类。外观不良包括有针孔、麻点。起瘤、起皮、脱落、阴阳面、斑点、烧焦、暗影、树枝状和海绵状江沉积层以及应当镀覆而没有镀覆的部位等缺陷。
    2.5.2  镀层厚度的测定
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