1。1。4 ZnO薄膜的压敏性质

在非线性伏安特征表现上，ZnO薄膜表现出了其具有良好的压敏性质。科研小组在衬底温度较低的情况下，沉积出具有一定主晶相的ZnO压敏薄膜，采用的方法是GDARE法。在制备高质量ZnO薄膜的过程途中，薄膜退火时使用较低的退火温度，经过这些过程后制备出的高质量ZnO薄膜可以显现出良好的非线性压敏特性。实验结果发现，在经过约为3个小时的低温度热处理之后，热处理温度要控制在200-300℃范围内，经过这些特定的制备条件后所得到的高质量ZnO薄膜就可以显示出相对最为优良的压敏特性。

1。2无极性ZnO薄膜研究现状及发展趋势

1。3本文研究思路和内容

本论文提出在极性和非极性多种不同取向的蓝宝石、铝酸锂和ZnO衬底上制备无极性氧化锌薄膜的研究，主要借助衬底材料对ZnO薄膜结晶和取向性的诱导作用，通过研究蓝宝石、铝酸锂和ZnO衬底上氧化锌薄膜制备工艺，获得并了解氧化锌薄膜的结晶取向和发光性能的控制方法，并在此基础上，减小氧化锌薄膜内部缺陷密度，提高薄膜结晶质量和发光性能，探索提高光输出功率和发光效率的解决方法。具体内容包括以下几点：

1。在蓝宝石衬底、铝酸锂衬底和纯氧化锌衬底上制备ZnO薄膜。

2。通过XRD和光致发光谱评价薄膜的结晶取向性和发光性能。

3。对比分析薄膜对衬底的取向和外延膜的取向。

4。对比分析薄膜结晶质量和光学质量。

2 ZnO薄膜的制备和表征

2。1ZnO薄膜的制备方法

2。1。1化学气相沉积（CVD）来:自[优.尔]论,文-网www.youerw.com +QQ752018766-

　　化学气相沉积法的原理是由气相入让反应物在衬底表面发生反应，从而可以在衬底基片上沉积下来制备得到薄膜。常见的方法主要有四种，一是化学气相沉积（CVD）、二是金属有机物化学气相沉积（MOCVD）、三是燃烧化学气相沉积（combustion CVD）还有大气压中的化学气相沉积（atmospheric CVD）。使用化学气相沉积法制备高质量ZnO薄膜时，锌源通常使用的是ZnO，Zn或着含有锌的化合物。步骤是首先在高温区通过高温使得ZnO、Zn或含锌化合物气化，再通过载气体将ZnO、Zn或含锌化合物的气态输运到沉积区在衬底基片上沉积制备成为薄膜，通常使用高纯度的氢气等作为过载气体。简单来说，想要制备高质量的ZnO薄膜，就必须是要在一定温度、压力条件下气化、分解、沉积最终制备而成的。高质量的ZnO外延薄膜可以通过化学气相沉积法（CVD）制备而成，因为这种方法很容易可以实现ZnO薄膜的掺杂，然而化学气相沉积法也有一些缺点，例如会在制备的过沉重发生化学反应发生，从而会导致反应的途中产生一些其他的物质，同时制备条件是较高的衬底基片温度的，这两点在对于制备电子器件的工艺过程中是比较不利的。