Ivan-Zar 智利 10000-12000 1994至今

Puntadel cobre 智利 7000-8000 1994至今

Quebrada Blaca 智利 75000 1997至今

Cerro Verde 智利 54200 1998至今

Nifty Copper 澳大利亚 16000 2005至今

紫金山矿堆浸厂 中国 20000 2006至今

金川铜堆浸厂 中国 10000 2006至今

Whim 澳大利亚 17000 2006至今

Spence 智利 200000 2007至今

Tres Valles 智利 18500 2010至今

国内在浸出-萃取-电积工艺上有了很大进展,但与国外比较还有一定差距,主要表现是在起步晚，建成工厂规模小，国内外生产技术保密。

L-SX-EW工艺包括三个主要环节:(1)硫酸介质中铜的溶解(浸出)；(2)采用一种萃取剂把铜从浸出液中萃入到有机相,再从有机相中反萃到电解液中(萃取);(3)在阴极上电积铜(电积)。

L-SX-EW工艺简单,但生产作业最佳化难度很大,最难的是浸出。浸出工序是铜萃取工厂的第一道工序,即料液制备工序。料液的质量对下一道工序影响较大。传统的浸出方法有: 矿堆浸出、就地浸出、搅拌浸出等,现又有几种新的方式:薄层细菌浸出( TL B) ,用于处理次生铜矿物; 细菌浸出,用于从硫化矿中浸出铜; 以及地下溶浸、氨浸等。

第二道工序是溶剂萃取,是将铜离子从浸出液中选择性捕集到另一种液相(有机相)中,使不纯料液净化产出高纯溶液的过程。目前国内生产厂常用的萃取设备为国内自行研制的浅池式混合澄清萃取箱,所处理的水相是pH为1~3的稀溶液, 通常含铜40 g /L。反萃取剂为高酸度( 150～200 g /L)的电解废液。铜溶剂萃取过程可用如下方程式表示:        

其中: RH为萃取剂; R2Cu为萃取剂与铜形成的配合物。

第三道工序是电积。以前的生产厂多选用Pb-Ca-Sn合金作不溶阳极,纯铜始极片为阴极,现已普遍采用永久阴极(又称ISA法) ,全部生产槽都采用不锈钢阴极,不用始极片,省去了种板槽系统和始极片剥离及加工过程,电流密度大大提高,在操作、管理、产品质量等方面都有不少好处。

1.2 羟肟类萃取剂

本课题采用的是羟肟类萃取剂，羟肟类萃取剂对铜的溶剂萃取，是近代发展起来的一项湿法炼铜新技术。铜是一种价格不高的金属，萃取工艺的生产成本必须很低，才有可能被采用。羟肟类铜萃取剂主要适用于硫酸浸出，如低品位铜矿的生物浸出，而不需要用碱中和，操作费用低于其他工艺，而且效果胜于任何其他工艺。目前，铜工业萃取剂中主要采用的还是肟类有机化合物及其复合物，该类化合物具有不能旋转的（C=N）碳氮双键，因此存在顺式和反式两类几何异构体结构，如下式所示[8]：