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采用二次曝光全息差分干涉原理，将被测材料样品的反射干涉条纹和透射干涉条纹记录在同一张全息图上，从全息图的再现波面计算样品的折射率微差和厚度微差。测试精度达到±1*〖10〗^(-6)。
这种方法既可实现细磨样品的检测，也可实现抛光样品的检测。但要求抛光样品平面度等于λ/2，局部平面度等于λ/4，两通光面平行度为5’’~10’’,这无疑对样品的前期加工提出了更高的要求，造成检测加工成本的增加。在对细磨样品均匀性进行检测时，对贴置玻璃也提出了近乎苛刻的要求：两工作面的平行度等于λ/20，局部平面度等于λ/30，平行度为1’，光学均匀性不大于5*〖10〗^(-7)。这同时给贴置玻璃质量及检测提出了新的要求。
（2）多光束球面干涉法
该方法利用干涉条纹的弯曲量与折射率分布之间的关系，通过观察样品及贴置玻璃的综合透射干涉条纹的弯曲度及条纹间距，对均匀性进行计算，精度可达±2*〖10〗^(-6)。
这种方法同样对贴置玻璃提出了较高的要求，要实现较大口径材料样品的检测，贴置玻璃的质量成为影响检测的关键。同时，其检测精度也不能满足高精度要求项目的需求。
与直接测量法相比，绝对测量法虽然检测过程比较复杂，但能摈除干涉仪标准面及待测元件的面形影响，具有很高的测量精度而逐渐被广泛运用。随着国家重大光学工程项目的开展，高精度测量光学材料的光学均匀性，尤其是高精度测量大口径光学材料光学均匀性的要求日益迫切。
绝对测量法的测量原理如图2.2所示【12】，设平板的厚度为t，折射率为n_0，光学均匀性为deltn，TF到平板前表面的距离为L_1，RF到平板后表面的距离为L_2。用T、A、B、R分别表示TF的反射面、平板的前、后表面、RF的反射面的面形。若不考虑多次反射，干涉条纹由T和A干涉，A和B干涉，T和B干涉，T和R干涉，A和R干涉，B和R干涉形成。将平板移走，保持TF、RF的距离不变，再进行一次空腔测试，如图2.3所示，得到空腔下的干涉条纹。各组条纹的相位差信息以及干涉腔长如表2.1所示：
图2.2：费索干涉仪测量平行平板的测试腔 图2.3：空腔
表2.1：各组条纹的相位差以及光程差
序
号 干涉
信息 相位差 干涉腔长
1 T、A
干涉 W_1=2A-2T h_1=L_1
2 B
干涉 W_2=2n_0 (B-A)+2Δn*t h_2=nt
3 T、B
干涉 W_3=2A-2T+2n_0 (B-A)+2Δn*t h_3=L_1+nt
4 T、R
干涉 W_4=2R-2T+2n_0 (B-A)+2Δn*t+2A-2B h_4=L_1+L_2+nt
5 R
干涉 W_5=2R+2n_0 (B-A)+2Δn*t-2B h_5=L_2+nt
6 R
干涉 W_6=2R-2B h_6=L_2
7 空腔
测试 W_7=2R-2T h_7=L_1+L_2+t
由表1中相位差信息可以得到，平板的光学均匀性为：
Δn=(W_2-n_(0() W_7-W_6-W_1))/2t （2-8）
或者
Δn=((W_4-W_7 )*n_0+(n_0-1)(W_1-W_3))/2t （2-9）
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