如图3。1， 处于真空的环境当中，原料被加热，直至变为气化状态，固态原料和液态原料外表的很多分子或原子都会成为气态分子或原子，此类气态物质几乎未经过碰撞便达到低温基底之上，凝结沉积形成膜。

图3。1 真空蒸镀装置示意图

真空蒸镀法具备如下优点：(1) 能够借助于改变基板的温度以及沉积速度还有蒸气分子入射角得到相应的薄膜。(2)膜体具有较高的纯度。(3) 几乎不排出污染物，无“三废”公害。 (4) 可以在金属物质、导体、磁体抑或是塑料高分子材料等各类物质外表沉降如金属物质以及相异比例的合金以及各类化合物的膜体，应用范畴很大。（5） 对于监测和控制薄膜成分和厚度是有极大帮助的，精度已经被控制到单分子量的级别。

固体材料在空室内被加热后 ，将会被蒸发或者氧化，最后再被衬底材料表面所吸收。薄膜的形成需要历经三个流程：

（1）蒸发或升华。加热后的材料会被蒸发或升华，经过固液气三态的演变历程。针对这种单质性的材料可以看出电阻加热以及电弧等形式进行加热和利用。

    a。电阻加热，由于电阻是蒸发源，它可以通过运用一些材料例如：Al、W、Mo、Nb、Ta及石墨等通过电流受热后蒸发成膜。

b。电子束加热，欲蒸发的材料（阳极）被电子束轰击后，经过电子加速极后在衬底材料表面被沉积下来。

c。高频感应加热，涡流电流是有通以高频电流后的高频线圈所产生的，由此提升了内置材料的温度，且融化后形成了膜。

d。电弧加热，被蒸发材料和内接铜杆分别在高真空下做阴极和阳极，接通电压后，将阴极与阳极尖端相接触，此时阴极将会出现弧光放电反映，继而蒸发成膜。

e。激光加热，又称非接触加热法。借助于CO2和YAG钕玻璃的高能量激光对于材料进行加热，促进其实现气化状态。

（2）运输到衬底。在真空的情况下会有一定的气态原子来实现蒸发源的利用，实现蒸发源的帮衬。主要方法有：文献综述

    a。闪蒸蒸发（瞬间蒸发）：根据这种薄膜材料制定出高温蒸发的基础实现，并可以将细小的颗粒物实现被蒸发膜的组成比例，从而可以根据分组实现相同的效果。

b。多源蒸发：一些合金薄膜的组成元素，会在蒸发源中被独立的蒸发掉，最后根据材料的组分不同形成不同比例的膜。

c。反应蒸发：进入活性炭气体的真空室中，将其中的原子分类以及自蒸发原子实现化合物的确定，另外还需要将其中的金属实现反映后的结合，从而形成一种高价化合物。

d。三温度蒸发；又叫双蒸发源 。不同的蒸汽压元素，也分别控制着各不相同的蒸发温度、蒸发速率及衬底温度。此时膜也在衬底表面被沉积而成。

e。热壁法：石英管（热壁）被加热过后，会把产生的分子或原子送达衬底成膜。这一过程是叫外延薄膜的发展。

f。分子束外延(MBE)：其方法主要使用真空蒸发来进行实施，并在一定程度上实现溅射外延。外延是指位向相同同质外延的同类单晶体，亦或是具有共格或共格联系的异质外延的异类单晶体。

3。1。2  溅射镀膜法 

    从现在的基本情况来看磁控溅射在工业行业当中有着十分广泛的运用，发挥着极为重要的作用，在器件等不同方面有着重要影响[15]。如图3。1。2所示， 在真空条件下，粒子通过充能得到能量进而冲击目标原材外表，让目标原材外表原子得到充足的能量继而逸散的历程就被叫做溅射。在通过溅射进行粒子的制定和时候，一般能够借助于辉光放电来进行获取，处于l0-2Pa～10Pa的状态下，使得膜体的沉降更为均匀。这是由于在到达基底进程里，溅射得到的粒子很容易就会和真空环境中的气态分子产生撞击，继而使运动的方向无法控制。这些年产生的大范畴磁性管控溅射沉降膜体的方法，沉降速度很快，自动化程度较强，工艺连续性强，能够广泛进行工业材料的功能性镀膜、大型建筑装饰镀膜。