<1>可以用来检测一些超薄膜和多层膜：

可以检测波长范围从190nm到830nm(标准：240-830nm)的紫外波段和可见波段的膜厚。

<2>检测速度快、灵敏度高，可以从以下两种模式中选择：

ⅰ、一种是单色模式：评估精度较高；

ⅱ、另一种高速检测模式：它是利用多个波长同时检测，检测时间短、速率快、灵敏度高。

<3>由于辨认图案的精度较高，可以按照主动监测法鉴定实现持续检测。

二、膜厚测量技术在国内的现状

目前，国内光学薄膜技术检测还处于学习探索阶段，在薄膜检测上起步较晚，远远落后于发达中国家。为了能尽快地赶上国外的薄膜技术水平，我认为我国应把主要精力放在深、广、高这三个方面来研究。深度方面是指进一步的加强基础理论的研究，有组织的规划成膜特性、膜层结构、材料特征等方面的研究；广度方面是指目前国内在薄膜技术的应用还没有普遍被人们认可，我国的薄膜检测研究主要分布在一些院校和研究所，而一般工厂则停留在60年代测量膜厚的水平，导致新技术不能推广；高度方面是指催动科研快速发展，早出成果，将成果应用于生产中。我国目前应用的镀膜设备大多数都是从国外进口的，不光价钱很贵，体积也相当大，在技术操作上对我们现在的技术来说比较困难。

浙江大学科研研究所对膜厚测量系统的研究：所示，该系统主要由AFM（Atomic Force Microscop）、光纤光谱仪、扫描控制电路、放大与反馈电路、数模转换接口以及计算机接口组成[2]。系统测量范围较广、精度较高、性能较好，运行较稳定。在测量中常用光纤光谱传导光信号，使它的入射光和反射光经过相同的6根光纤，不需要添加标准的光谱做参考，可以直接测量光谱曲线计算膜厚。这种方法测量时一般选用较厚的膜，膜厚在0。5μm～200μm左右。