图1。1 MEH-PPV的分子式

2  有机薄膜制备方法简介

薄膜的特性对于其发光亮度与效率影响比较大，为了用特性好的薄膜制造高亮度、高效率的器件，制备性能优越的薄膜是十分重要的。现在常用的制备薄膜的方法主要有：一、物理方法，如真空蒸发镀膜法、溅射镀膜法、外延法和物理气相沉积法等；二、化学方法：如气相反应方法、液相反应方法等。对于有机光电薄膜，一般采用真空蒸镀法，旋涂法以及LB膜法等方法。

2。1 真空蒸镀法

真空蒸镀法是一种制备有机小分子薄膜的常用方法，对于没有合适的溶剂的材料比较适用。在真空中加热蒸发待成膜材料，使其形成蒸汽流，发射在基片成膜的一面，凝结成均匀的固态薄膜。真空蒸镀法原理图如图2。1所示。

图2。1 真空蒸镀法原理图

真空蒸镀法有单蒸发源法和多蒸发源法。多蒸发源法适用于所制备有机薄膜包含多种有机成分的情况，通过利用不同的材料性质上的差别，控制其蒸发的温度和蒸发速率等条件，实现多源蒸发。因为有些有机物蒸发不易控制，所以通过多蒸发源法制备的薄膜可能质量不会达到要求。单蒸发源法不需要平衡各种不同有机物蒸发速率与温度，找到理想的蒸镀温度后，可以迅速生成高质量的有机薄膜。

2。2 旋涂法

旋涂法是一种非常常用的制备聚合物薄膜的方法。这种方法需要选择适合材料的溶剂，配置合适浓度的溶剂，同时旋涂时还要采用适当的旋涂速度和足够的时间。有时为了提高成膜的质量，会利用如臭氧等物质处理基片表面，使有机溶液更好的在基片上延展；在薄膜沉积后，通过低温退火处理，也会提高成膜质量。旋涂时，将溶液滴一滴在基片中心，利用旋涂仪在1000-6000rpm的高速旋转基片，溶液会因离心力的作用，被分散开来，大部分溶液会被甩出基片，留下薄薄的膜层覆盖在基片上。材料的各种性质和旋涂的各种参量会决定到成膜的性质。

旋涂的过程主要包含有配料、和溶剂挥发成膜三个阶段。配料通常有静态配料与动态配料两种方法[2]。静态配料是指将一定量的溶液滴于基片中央后，再进行高速旋转，让材料均匀覆盖。动态配料是指基片进行低速旋转，如500rpm的速度旋转的同时，将溶液适量滴在基片上。因为配料时基片在旋转，溶液可以更好的覆盖基片，当溶液的黏性不够好时，动态配料可以让溶液更好的成膜，这是动态配料的优势所在。配料完成后，开始让旋涂仪加速旋转基片，通常根据溶液与材料的性质至1500-6000rpm之间，使溶液层越来越薄，直至成膜。在一些情况下，高速旋转后会有干燥薄膜的过程，特别是膜比较厚的情况下，长时间的干燥会增加薄膜的物理稳定性。

利用旋涂方法制膜的方法十分普遍，设备成本也不高，但因为大部分的原材料被离心力甩出基片外，浪费了很多原材料，所以，旋涂法并不能在工业上实现大面积、低成本制膜。虽然如此，实验室研究材料时，旋涂法仍然是一种方便快捷的成膜方法，因而一直被广泛的使用。