（4）最后一步是脱模，采用的方法是反应离子蚀刻，使用此方法清除剩余的光刻胶，之后把压印好的图形从模板移动到硅基板上。紫外纳米压印技术的生产程序如下图1所示。

图1紫外固化压印技术工艺流程　

3。紫外纳米压印技术的优缺点

在操作过程中必须经过高温、高压环节，压印好的图形在脱离模具之后常常会发生形状改变的情况，这是传统的热压印技术其自身的缺陷。因为这样当执行几次以及进行三维结构的纳米压印时，传统的热压印技术就不会那么容易实现，还导致了一些问题比如压印过程繁琐以及不易掌控等问题。美国得克萨斯州大学的科研队在1999 年时展示出了一种紫外纳米压印技术[6]，该项技术是通过紫外光来让聚合物得以固化的并且能够在室温以及低压的情况下实现图形转移的纳米压印技术，紫外纳米压印技术目前己经是纳米压印技术研究的相对较为重要的一个方面成为其研究的主流。

紫外纳米压印技术的操作过程为：起先准备一有纳米图案的模版这一点和热压印技术的工艺流程的开始期间是有所相似的，而紫外纳米压印技术的模版一定要采用石英，因为他能够使紫外线透过，这一点两者是不同的。之后往基板上面覆盖一层液态的高分子光刻胶，要求其粘度要低、对紫外光要敏感。接着用相对小的压印的力度把模版印在光刻胶的上面，然后光刻胶经过紫外光的照射得以固化成型。最后经过脱离模版再去掉遗留在基板上面的光刻胶，从而紫外纳米压印的全部流程得以完成。由于压印过程中采用的方法不同，所以紫外固化纳米压印技术具有许多长处：

（1）紫外纳米压印能够处在室温的环境下操作，因为这样能够节省加热以及冷却的时间。而且压印过程相对简单。来,自.优;尔:论[文|网www.youerw.com +QQ752018766-

（2）紫外纳米压印由于能够在室温的环境下操作解决了参数变化以及图形的形态改变等问题，而这些问题的产生则是由基底和模版的热膨胀造成的。

（3）紫外纳米压印技术还必要有十分小的压力以及相对较短的压印周期，因为其应用的光刻胶普遍具备十分低的粘度。

（4）紫外纳米压印应用的掩模板是通明的，由此不难完成层和层之间的对齐，并且层和层的对准甚至能够到达50 nm精度非常高，对于半导体业的开展十分适宜。