摘  要：本文将含氟丙烯酸酯（FA）添加到特定比例的聚氨酯丙烯酸酯（1:1和稀释剂的质量比）中，进行紫外光固化得到了各方面性能都比较好的光刻胶。红外光谱图证实成功地制备了含氟共聚物网络体系。实验结果表明，当FA含量为9 wt。 %时，在没有改性的二氧化硅模板表面上，光刻胶具有高剥离图形的能力，固化速率快的特点。当引发剂含量为4 wt。 %时，光刻胶的柔韧性达到最佳值，为2 mm。84769

毕业论文关键词：光刻胶；紫外固化纳米压印技术；含氟丙烯酸酯

Synthesis of UV Nano-transfer Material

Abstract： In this article, fluorinated acrylate (FA) was added to a specific proportion polyurethane acrylate (mass ratio of 1:1 and diluent), obtained a photoresist with good comprehensive properties by UV-curing。 The successful preparation of fluorine-containing copolymer network system was confirmed by infrared spectroscopy。 The experimental results show that when the FA content was 9 wt。 % on the surface of unmodified silica template, and the photoresist has the ability of high stripping pattern and fast curing rate。 When the initiator content was 4 wt。 %, the flexibility of photoresist reached the best value which was 2 mm。

Key Words: Photoresist; UV curing nanoimprint technology; Fluorine-containing acrylate

目    录

摘  要 1

引  言 1

1 实验 3

  1。1 实验原理 3

  1。2 实验试剂 4

  1。3 实验仪器 5

  1。4 实验步骤 6

2 结果与讨论 7

  2。1 红外光谱分析 7

  2。2 分离力的测定 8

  2。3 固化率的测定 8

  2。4 柔韧性的测定 9

3 结  论 10

参考文献 10

致  谢 13

紫外纳米转印材料的合成

引 言

人类社会发展到今天，科技的飞速发展给人们的生活带来了很大的便利，但与此同时也使人们对生活的要求也越来越多。纳米压印技术由于其成本低廉、高分辨率、产量高等优点[1]而在纳米光刻技术中受到广大学者与科学家们的青睐，首先纳米压印技术是在1997年由美国普斯林大学S。Y。Chou[2]等人提出的一种新型的光刻技术，被誉为是可能用于芯片制造领域的下一代光刻技术之一[3]。与此同时麻省理工大学的一篇文章也把它称之为可能是世界的十大技术之一[4]。经过近20年左右的发展，纳米压印技术广泛被应用于电子学[5,6]、生物学[7]、光学[8-10]等领域，其压印技术本身也发生了翻天覆地的变化。纳米压印主要分为热压印、微接触印刷、紫外压印三种压印方式。热压印使用热固性或热塑性材料作为图形转移层，能够获得高分辨率、高深宽比的构造图，但是压印时需加热，所需压力也比较高且热压印胶固化速度较慢。微接触印刷主要是利用巯基对金的特殊作用力进行结构复制，但其分辨率却没有热压印和紫外压印那么高，主要应用于生命科学领域。紫外压印不需要热处理，且能在低压下能快速压印，同时能满足高分辨率的优点，因此非常适用于微纳加工行业[11,12]。论文网

紫外固化纳米压印技术具有低温低压和加工速率快的特点，与其它压印技术相比，表现出了巨大的优势。光刻胶作为一种高精度的复制产品，一方面满足了人们对产品复制精度的需求，另一方面也解决了产品的粘度问题、还有抗刻蚀能力，为广大人民的生活提供了巨大便利。此外光刻胶还是紫外固化纳米压印的重要的材料，原因是它的综合性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时的刻蚀选择性[13]。因此很多紫外光固化材料都被用作紫外光刻胶的原料，而目前主要有三大类材料可以用来合成紫外纳米压印光刻胶，即有机硅类、纯有机类和含氟有机类三大类。纯有机类材料表面能高，不适合用于制造高分辨率图形且易与模板粘连。而氟有机聚合物材料具有表面能低的优点，用其做光刻胶原料脱模比较容易，但抗刻蚀能力比较差[11]。因此我们要在纯有机类物质里添加含氟有机类，得到既易于脱模又抗刻蚀能力强的光刻胶。文献综述