xK++MoO3+xe-        KXMoO3[9]

    正是这一结构使得三氧化钼纳米阵列在光催化和电致变色方面具有广泛应用前景。在基底片上制备MoO3纳米材料比直接制备MoO3纳米粉末更具优越性，因为直接利用粉体作为光催化剂会造成不容易分离光催化剂与染料溶液的后果，且在净化水的过程中粉体光催化剂更容易损失。目前合成MoO3纳米列阵的方法主要有气相法、液相法、固相法和磁控射溅法等方法，其中液相法应用较为普遍。根据实验过程的不同， 可以将液相法分为水热法、 溶胶-凝胶法、 氧化还原法以及电解法等多种方法。本文采用水热法合成制备MoO3 纳米阵列，该方法是指将反应溶液置于密封的压力容器中如反应釜，创造高温高压的条件，待生成物达到过饱和状态后，就会结晶生长，在基底片上形成纳米阵列膜。

图2-1 三种晶型的三氧化钼排列结构

2。2MoO3纳米阵列的光催化原理

    三氧化钼纳米材料作为一种良好的半导体光催化剂，在受到能量大于带隙能的光照条件下，内部电子克服禁带，产生电子和空穴，某些电子会空穴会在电场作用下出现在三氧化钼纳米阵列表面，形成电子--空穴对。此时，三氧化钼纳米阵列表面就会发生如下氧化还原反应：