将一块半导体或导体材料放置于磁场之中,当施加的外磁场垂直于半导体中流过的电流时,如图3.1所示,会在半导体内垂直于磁场和电流的方向上产生霍尔电动
势。沿Z方向加以磁场B,沿X负方向通以工作电流I,那么载流子将在Y轴方向受到洛仑兹力的作用,在Y方向产生霍尔电动势 ,这现象称为霍尔效应。根据霍尔效应制造的霍尔器件是具有一定形状的半导体薄片,实验表明,在磁场不太强时,电位差 与电流强度I和磁感应强度B成正比,与板的厚度d成反比,即
                                                             3.1
或                                                           3.2
式中:d为霍尔器件的厚度; 是与材料有关的霍尔系数;I为通过霍尔片的电流;B为外磁场的磁感应强度。 表示单位控制电流和单位磁感应强度下的霍尔电势,称为器件的乘积灵敏度,单位为 mV/(mA•T)。对一个霍尔器件而言,如果霍尔元件的灵敏度 已知,测得了控制电流I和产生的霍尔电压 ,则可测定霍尔元件所在处的磁感应强度。
 
图3.1 霍尔效应原理图
 
    产生霍尔效应的原因是作定向运动的带电粒子即载流子(N型半导体中的载流子是带负电荷的电子,P型半导体中的载流子是带正电荷的空穴)在磁场中受到洛仑兹力作用而产生的。
    下面以 N 型半导体为例,讨论一下霍尔电动势的产生,电子所受到的洛仑兹力为
                                        3.3
式中 为电子的漂移运动速度,e为电子的电荷量。 指向Y轴的正方向。自由电子受力偏转,同时在相反面上出现相同数量的正电荷,在两侧面间形成一个沿Y轴正方向上的横向电场 (即霍尔电场),使运动电子受到一个沿Y轴负方向的电场力 ,两侧面之间的电位差为 (即霍尔电压),则
                                          3.4
电场力将阻碍电荷的积聚,最后达到稳定状态时有     3.5
若N型单晶中的电子浓度为n,则流过样品横截面的电流 得   3.6
将3.6式代入3.5式得      3.7
式中 称为霍尔系数,它表示材料产生霍尔效应的本领大小;  称为霍尔元件的灵敏度,一般地说, 愈大愈好,以便获得较大的霍尔电压 。因 和载流子浓度n成反比,所以采用半导体材料作霍尔元件灵敏度较高。 和样品厚度d成反比,所以霍尔片都切的很薄,一般 【11】【12】。
3.1.3 探头结构设计
   根据对被测磁场特性的分析,最后决定选用A6523线性霍尔传感器。A6523霍尔
传感器体积小,灵敏度高,内部集成有温度补偿电路。具有良好的温度稳定性和电磁兼容性,抗噪声能力强,适用于测试环境恶劣的线性和旋转位置检测系统。其灵敏系数为5mV/G,测量范围为+50mT~-50mT,频响为27KHz,尺寸为3mm×3mm。
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