摘 要：近年来，透明电子器件和柔性显示器快速发展，CdO这种新型透明导电薄膜，由于在导电、可见光透过率、成本及室温状态下易沉积等方面的优异性能，受到了广泛的关注。透明导电薄膜指的是在可见光范围内平均透过率达到80%以上，并且电阻率在10-3Ω▪cm以下的薄膜。CdO和其他导电薄膜（ZnO、ITO）相似，被广泛应用于太阳能电池、液晶显示器、热反射镜、平板显示装置及光电子装置等领域。因此，优化制备方法，以及优化CdO基透明导电薄膜的性能的研究是十分必要的。本文主要讨论CdO基透明导电薄膜的两种制备方法，对不同制备方法的优势和缺陷进行了比对，并且对不同制备方法所得到的CdO基透明导电薄膜的性能进行比较，并研究了Mg掺杂对制备CdO薄膜的影响。92628

毕业论文关键词：CdO基透明导电薄膜，制备方法，Mg掺杂，性能优化

Abstract: In recent years, the rapid development of transparent electronic devices and flexible displays, this new type of CdO transparent conductive films, due to the conductivity and transmittance of visible light, and the excellent performance of deposition at room temperature, and so on, have been widely concerned。 Transparent conductive thin film refers to the average transmittance in the visible range of more than 80%, and the resistivity of the film lower than 10-3Ω▪cm。 CdO is similar to other conductive films (ZnO, ITO), which is widely used in solar cells, liquid crystal displays, thermal reflectors, flat panel display devices and optoelectronic devices。 Therefore, it is necessary to optimize the preparation methods and optimize the performance of CdO based transparent conductive films。 Two kinds of preparation methods of CdO based transparent conductive thin film was discussed in this paper。 The advantages , disadvantages and the performance of CdO-based transparent conductive films used different preparation methods were compared。 Finally,  the effect of Mg doping on the preparation of CdO thin films is studied。

Keywords: CdO-based transparent conductive film, Preparation method, Mg doping,   performance optimization

目   录

1 引言 4

2 薄膜制备方法 4

2。1 磁控溅射法 4

2。2  溶胶-凝胶方法 8

3  掺杂对CdO薄膜性能的影响 11

3。1  薄膜结构分析 11

3。2  掺杂对光学性质的影响 12

4  结果与讨论 13

结  论 14

参考文献 15

致  谢 16

1 引言

自1907年首次应用磁控溅射方法制备出CdO透明导电薄膜后，透明导电波薄膜的制备就引发了广泛的关注，目前研究较多的半导体有In,Sb,Zn和Cd等的氧化物和其复合多元氧化物薄膜材料[1]。这些氧化物半导体材料具有重掺杂、高简并的特点，其光电性质取决于掺杂剂的浓度和特性以及金属的氧化状态。而CdO由于具有透过率高，载流子浓度高、室温状态下易沉积以及成本低等特点，得到更加广泛的研究。在柔性衬底上沉积透明导电薄膜，不仅延续了在硬质材料下沉积得到的透明导电薄膜具备的优点和光电性能,还拥有质量小、可折叠、抗震和成本低等优势[2]。柔性衬底的最大缺陷是不耐高温，所以沉积时的衬底温度不能太高,会不利于薄膜的沉积和生长, 其对制备光电性能优良的透明导电薄膜也会有一些影响。但由于 CdO 在室温下很容易沉积得到, 因此在柔性衬底上制备透明导电薄膜, CdO 有很大的优势。近年来，CdO基透明导电薄膜的制备出了几种方法，本文通过对两种制备方法的比较，总结出这两种方法制备的优缺点以及性能优化的方法。