1.2  金属氧化物薄膜材料的研究5

 1.3  新材料对高技术领域的支撑作用··6

2  金属氧化物薄膜的制备··6

 2.1  薄膜的制备方法··6

 2.2  磁控溅射原理概述8

  2.2.1  概述8

  2.2.2  磁控溅射基本原理8

 2.3  磁控溅射制备薄膜··10

  2.3.1  基片的准备··10

  2.3.2  靶材规格·11

  2.3.3  镀膜实验过程11

 2.4  小结·13

3  结论··13

参考文献·14

1  绪论

1.1  透明导电薄膜发展简史

    材料、信息科学技术与能源称为现代人类文明的三大支柱，是新技术革命的支柱与先导[1]。材料发展制约和推动着国民经济的高技术领域的发展。科学技术是建设现代化的物质基础，它为传统产业的改进以及高技术产业的兴起提供共性关键技术指导，同时也为国防建设提供了重要的物资保障。而衡量一个国家高技术水平高低和综合国力强弱的重要标志就是新材料的发展水平。

    新材料的制备以及合成，成为新材料发展中最为活跃的领域[2]材料的各向异性研究，材料表面与界面上各种特性的研究，非晶态材料及准晶态材料的合成，低维材料的开发以及对亚稳态材料特性的探索，光束、离子束与物质界面、交界面的相互作用等薄膜技术有着密切的联系。

    追溯薄膜的发展，最早的薄膜是阿拉伯人采用电池电镀[3]的方法制备的金属膜；到7世纪，达到了使银从银溶液中析出，沉积在玻璃表面，继而形成银薄膜的水平；然而系统的研究薄膜是在十七世纪以后；此后，在接下来的两个世纪，真空镀膜法、化学反应法以及电解法陆续出现并被运用，继而形成固体薄膜体系；19世纪七八十年代，表面物理科学、真空技术以及薄膜材料制备技术相互结合，大大的促进了薄膜制备技术的飞速发展，同时也推动了对薄膜产品的开发和利用[4]。例如，液晶显示膜、光学薄膜、建筑玻璃镀膜制品、刀具硬化膜、集成电路薄膜以及磁盘、光盘等方面都有广泛的应用[5]。在一些特殊形态材料领域里，如太阳能利用、传感器、微电子、光学、信息等领域中，薄膜技术都得到了广泛的使用。当下薄膜产业的发展的迅速，使得薄膜技术的应用范围不断扩大。薄膜技术涉猎非常广，不仅涉及到物理学、固体物理学、结晶学、表面科学[6]和化学等基础学科，和化工、真空、冶金等技术也是紧密结合的。这一技术是现代材料科学技术的重要组成部分，引起了人们的高度关注，不少科研工作者对其进行了深入的研究。目前薄膜科学技术正在快速地发展。薄膜技术既是综合性的应用科学，又涉及到许多跨学科的理论基础，特别是近年世界薄膜产业飞速崛起，因而对薄膜材料的研究既具很强的理论意义又有广泛的应用价值[7]。

1.2  金属氧化物薄膜材料的研究

就算是加工性能再好的金属，单靠机械加工制作厚度在微米量级以下的均匀薄膜，也是很难实现的。我们经常看到的，比如光反射镜表面上形成的Al薄膜、小型电子回路等中使用的金属氧化物薄膜等，一般都是靠真空蒸镀及溅射镀膜或者电镀制作的。随着金属氧化物薄膜各种功能的不断发现，它在高新科技中的应用也不断推广[8]。

1.3  新材料对高技术领域的支撑作用

    从科技发展史看，重大技术的革新往往是从材料的革新开始。在信息社会飞速发展的今天，新材料与高技术领域是科学与技术创新的主战场[9~11]。然而高技术的飞速发展对新材料的要求也越来越高，小型、轻量、薄型、高性能是电子设备发展的趋势。因此，开发新的薄膜材料是符合时代需求的。