薄膜厚度测量设备与测量方法比较研究
毕 业 论 文 外 文 摘 要
Title Comparative Study of the film thickness measuring equipment and methods of measurement
Abstract
This article describes the development of sculptured-film, plating experiments of sculptured- film and the measurement of thickness ,to determination of thin film optical constants ,the commonly used method are the photometric ellipsometry, interferometry, contour method and Abbe method. Determination of sculptured-film's thickness is an important part of scientific research and production process, Mainly by the white light profiler, Spectrophotometer,Ellipsometer ellipsometer for thickness measurement, measurement results, and come to the suitability of various methods and influencing factors caused by the different choice of instrument.
Keywords Sculptured thin film; Preparation; Thickness measurement
目 录
1 绪论 1
1.1 雕塑薄膜的立体性结构 1
1.2 雕塑薄膜的常见应用 2
1.3 所做工作 3
2 雕塑薄膜 4
2.1 雕塑薄膜的双折射特性 4
2.2 雕塑薄膜的制备方法 5
2.2.1 在空白的基片上沉积雕塑薄膜 6
2.2.2 在预成型的基片上沉积雕塑薄膜 9
2.3雕塑薄膜的镀制 10
2.4 本章小结 11
3雕塑薄膜的测试方法与数据分析 12
3.1 薄膜的精密测试仪器 12
3.1.1白光轮廓仪法 12
3.1.2 接触式粗糙度仪法 13
3.1.3 分光光度计法 14
3.1.4 椭偏仪法 18
3.2 测试结果分析 20
3.2.1白光轮廓仪法的测量数据 20
3.2.2接触式粗糙度仪法测量数据 21
3.2.3分光光度计法测量数据 23
3.2.4 椭偏仪法测量数据 26
3.3分析结论 26
结 论 27
致 谢 28
参 考 文 献 29
1 绪论
1.1 雕塑薄膜的立体性结构
近年来，在传统光学薄膜的基础上，薄膜型光子晶体、光折变薄膜、高密度体记录薄膜等新型薄膜技术都得到了迅速发展，其中雕塑薄膜就是顺应薄膜未来的发展趋势，通过改进传统光学薄膜的制备方法而得到结构可控的薄膜。区别于普通薄膜的一般一文结构，雕塑薄膜具有独特的三文结构，由于这种薄膜的孔洞较多且微观结构多样，因而具有很多新颖的光学特性。
当使用物理气相沉积法（Physical Vapor Deposition -PVD）制备薄膜时，若将基片倾斜一定的角度，如图1.1 所示，控制气流入射方向与基片表面法线方向成一定的角度，再辅以不同的基片旋转方式，就可以得到不同于传统光学薄膜的各向异性薄膜，使得到的薄膜的性能发生根本变化，这种制备方法称为倾斜角沉积（Glancing angle Deposition—GLAD）法。采用该技术得到的薄膜在微纳米尺度具有多样的形貌，就如被雕刻镂空一样，所以被形象地称为雕塑薄膜[1]。
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