2。1  氨基的保护和脱保护

     首先对苯胺上的氨基进行保护，选用氯甲酸乙酯为保护剂，生成中间产物。在选择氨基的保护基时，我们不仅仅需要认真考虑到后续参与的反应物和反应所需要的条件，还要考虑整个过程中可能会影响的官能团。因此，我们需要先对反应的官能团做出评估，明确在反应过程中不稳定的官能团，从而进行保护，并在所选择保护基的性质的前提上，选用满足反应条件的氨基保护基。然后，反应过程中，在需要同时消除几个保护基团时，选择一样的保护基保护是非常有必要的（例如可以选择苄基来保护羧酸生成酯，保护氨基生成氨基甲酸酯，保护羟基生成醚）。紧跟着，需要选择性除去保护基的时候，只可以选用种类不一样的保护基来参与反应（例如可以用氢解除去Cbz保护的氨基，但是不能除去Boc保护的氨基）。另外，影响对氨基的保护生成和去除速率的因素，我们还需要从多方面多角度来思考（例如羧酸伯醇酯远比叔醇酯容易生成或除去）。最后，如果不容易找到合适的保护基，有必要及时调整反应路线，或者重新设计路线，设计出不需要保护基参与的新合成路线。在有机合成反应中，我们需要对反应物的氨基进行保护，例如伯胺、仲氨、咪唑、吡咯、吲哚和其他芳香氮杂环中。至今，我们使用过很多氨基保护基，可以被归纳分为三大类，也就是烷氧羰基、酰基和烷基。其中，烷氧羰基被经常使用，由于在接肽时N-烷氧羰基保护的氨基酸的消旋化难以进行。伯胺、仲氨、咪唑、吡咯、吲哚和其他芳香氮氢都可以选择合适的保护基进行保护。下表列举了几种常用的具有代表性的氨基保护基。

表2。1  常用的氨基保护基

结构 缩写 应用 引入条件 脱去条件

  Cbz 伯胺、仲氨、咪唑、吡咯、吲哚等 Cbz-Cl/Na2CO3/CHCl3 /H2O H2/Pd-C，供氢体/Pd-C，BBr3/CH2Cl2 or TFA，HBr/HOAc等

  Boc 伯胺、仲氨、咪唑、吡咯、吲哚等 Boc2O/NaOH/diox/H2 O, Boc2O/ /MeOH, Boc2O/Me4NOH/

CH3CN 3MHCl/EtOAc, HCl/MeOH or diox, TosOH/THF-CH2Cl2, Me3SiI/CHCl3orCH3CN

  Fmoc 伯胺、仲氨等 Fmoc-Cl/NaHCO3/

diox/H2O 20%哌啶/DMF，50%哌 啶/CH2Cl2等

  Alloc 伯胺、仲氨、咪唑、吡咯、吲哚等 Aloc-Cl/Py Ni(CO)4/DMF/H2O; Pd(PPh3)4/Bu3SnH;

  Teoc 伯胺、仲氨、咪唑、 吡咯、吲哚等 Teoc-Cl/碱/diox/H2O TBAF;TEAF

  伯胺、仲氨、咪唑、吡咯、吲哚等 ROCOCl/NaHCO3,

/diox/H2O HBr/HOAc; Me3SiI;  KOH/H2O/乙二醇

  Pht 伯胺 邻苯二甲酸酐 /CHCl3/70℃;邻苯二甲酰亚胺-NCO2Et/aq。  Na2CO3